玻(bo)璃隔風透光、特性(xing)平穩，多種類(lei)型(xing)(xing)因為(wei)應(ying)用場所不(bu)一(yi)樣(yang)而具有不(bu)一(yi)樣(yang)的特點，應(ying)用領域十分廣。我們在選擇玻(bo)璃時，除開(kai)關心價(jia)錢之外，還應(ying)對其(qi)類(lei)型(xing)(xing)和特性(xing)有一(yi)定了解，取長補短，才可以(yi)找到更(geng)合適使用的材料。
一、玻璃雙面拋光機(ji)的(de)主要用途與特性
雙面(mian)拋光機用途(tu):
高精密玻(bo)(bo)璃(li)鏡面(mian)(mian)雙面(mian)(mian)拋光機、雙面(mian)(mian)研磨(mo)機、平面(mian)(mian)研磨(mo)機適用(yong)于水晶(jing)玻(bo)(bo)璃(li)、手機玻(bo)(bo)璃(li)屏、光學鏡片(pian)、結晶(jing)、瓷器(qi)、電子材(cai)料(liao)、硅(gui)、鎂、計算機磁盤、活(huo)塞(sai)環、瓷器(qi)硬質合金(jin)刀具液壓(ya)密封件(jian)、鎢(wu)鋼(gang)片(pian)、銨鐵(tie)硼(peng)、鐵(tie)氧體、鈮酸鋰、熱敏電阻(zu)等金(jin)屬(shu)材(cai)料(liao)及非金(jin)屬(shu)材(cai)料(liao)硬脆原材(cai)料(liao)或異型件(jian)的雙平面(mian)(mian)圖(tu)五金(jin)機械(xie)碾磨(mo)或打(da)磨(mo)拋光.
雙面(mian)拋光機特(te)性(xing):
1、選用(yong)日(ri)本氣動元件(jian),分段精密充壓控(kong)制,適合精磨、中磨、研磨、精拋等加工工藝規定.
2、選用(yong)日(ri)本進口(kou)主軸:保(bao)證機(ji)床的精(jing)密性及耐用(yong)度.
3、上(shang)磨盤快升、快降、緩升、緩降集中(zhong)于一(yi)個搖(yao)桿,操作更便捷.
4、獨特(te)的安(an)全鎖(suo)緊(jin)機(ji)構,避(bi)免出現意外(wai)(wai)斷氣(qi),斷電(dian)而“掉盤”傷人的意外(wai)(wai)產生.
; 5、與眾(zhong)不同(tong)的(de)上盤全自動波動定位設備(bei),降低(di)了(le)錯盤,對(dui)盤的(de)不便.
6、齒(chi)圈及(ji)擋(dang)水(shui)盤全自動升降系統(tong),既(ji)便捷拿取鋼件及(ji)齒(chi)合(he)傳動齒(chi)輪,又(you)考慮更(geng)改油(you)輪齒(chi)合(he)高矮部位(wei)的規定(ding).
二、鏡片是玻璃還是環氧樹脂
現階段,廣(guang)角(jiao)鏡頭的原材料主要是環氧樹脂和光學玻璃.
; 環(huan)氧(yang)樹(shu)(shu)脂(zhi)和(he)光(guang)(guang)學玻(bo)璃都有優點和(he)缺點.環(huan)氧(yang)樹(shu)(shu)脂(zhi)的(de)能(neng)夠壓(ya)膜成(cheng)(cheng)形,那樣制(zhi)做(zuo)非球面成(cheng)(cheng)本費就會(hui)大(da)大(da)的(de)降(jiang)低(di),或許(xu)光(guang)(guang)學玻(bo)璃有些也(ye)可以(yi)選(xuan)用壓(ya)膜的(de)方(fang)式(shi),但(dan)要(yao)是規格(ge)大(da),就較(jiao)為艱難(nan).樹(shu)(shu)脂(zhi)材料的(de)缺陷是光(guang)(guang)學折射率(lv)(lv)和(he)穿透率(lv)(lv)比不上部分(fen)光(guang)(guang)學玻(bo)璃,且損(sun)害閥值較(jiao)為低(di),在高能(neng)量密度應用下,就不能(neng)選(xuan)用環(huan)氧(yang)樹(shu)(shu)脂(zhi)或是是膠合件.
因此,如(ru)今用(yong)在(zai)成像(xiang)上邊,且要求鏡片總數少,成本低,例(li)如(ru)手(shou)機鏡頭,大(da)部(bu)分就會選用(yong)樹脂材料(liao).而,中(zhong)高(gao)功率的激光器(qi)準直和藕(ou)合(he)系統中(zhong),就會選擇光學玻璃材料(liao).
研磨(mo)拋光(guang)(guang)機是一(yi)種氣動工具，研磨(mo)拋光(guang)(guang)機由基座、拋盤(pan)、打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)紡(fang)織物、打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)罩及蓋等基礎元器件(jian)構(gou)成(cheng)。研磨(mo)拋光(guang)(guang)機實際(ji)操作的(de)(de)重要(yao)是要(yao)想方設法獲(huo)得*的(de)(de)打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)速(su)(su)度，便于盡早去除拋光(guang)(guang)時(shi)造成(cheng)的(de)(de)損(sun)(sun)害(hai)(hai)層。一(yi)起也(ye)使(shi)(shi)得打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)損(sun)(sun)害(hai)(hai)層不容易(yi)危害(hai)(hai)*終觀查(cha)到(dao)的(de)(de)機構(gou)，即不容易(yi)導致(zhi)假(jia)機構(gou)。兩者規定應用(yong)較粗的(de)(de)耐(nai)磨(mo)材(cai)料，以確保有(you)很大的(de)(de)打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)速(su)(su)度來除去拋光(guang)(guang)的(de)(de)損(sun)(sun)害(hai)(hai)層，但(dan)打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)損(sun)(sun)害(hai)(hai)層也(ye)較深；前者規定應用(yong)*細(xi)的(de)(de)原材(cai)料，使(shi)(shi)打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)損(sun)(sun)害(hai)(hai)層偏淺，但(dan)打(da)磨(mo)拋光(guang)(guang)速(su)(su)度低。
